高精度恒溫循環(huán)水槽性能與用途介紹

高精度恒溫循環(huán)水槽產(chǎn)品特點：

高精度恒溫循環(huán)水槽真因為有高性能的配置，可給其它的配套產(chǎn)品提供高精度的恒溫水源，所以在高科技的科研中起到了顯著的作用。

產(chǎn)品的性能優(yōu)勢：

節(jié)約能源：在夏季和高環(huán)境溫度下，冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用，節(jié)約的水資源。

效率更高：一臺循環(huán)水設(shè)備可同時滿足多臺外部設(shè)備的冷卻需求，持續(xù)提供低溫恒溫水源

適用于冷凝實驗。

控溫精度：PID控溫技術(shù)，內(nèi)置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數(shù)字顯示，操作直觀

安全性高：具有自我診斷功能；冷凍機(jī)過載保護(hù)等多種安全保障功能。

使用領(lǐng)域說明：

生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。

醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機(jī)、、冷帽、降溫毯等等。物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。

材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。